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氙的化学式为 kr，它是一种天然惰性气体，具有最大的相对原子质量和最大的相对密度。
六氟化钨（WF6）：作为前驱气体用于半导体制造中钨薄膜的沉积，也可用于以下用途
三甲基硼（B(CH3)3）：在沉积含硼薄膜的化学气相沉积 (CVD) 过程中用作前驱体。纯度：99%
三氯硅烷（SiHCl3）：生产半导体制造用超纯硅的主要前体。纯度：99.9%
六氟化硫（SF6）：被广泛用作高压应用中的电绝缘体、开关设备中的电介质气体，以及
二氧化硫在室温下为无色气体，有刺激性气味。它具有很强的渗透性，可渗透到
四氟化硅（SiF4）：用于生产半导体制造所需的硅，也是有机合成中的氟化剂。
四氯化硅（SiCl4）：用于生产半导体制造所需的硅以及合成有机硅化合物。纯度
硅烷是硅和氢的化合物，包括单硅烷（SiH4）、二硅烷（Si2H6）和一些高阶硅氢化合物。其中，单硅烷
磷化氢（PH3）：用于半导体工业中化合物半导体的沉积和某些化学品的生产。
氧气 O₂可用于钢铁、熔融切割、医疗、污水和工业废水处理等多个领域，还可用于
根据纯度的不同，一氧化二氮（通常被称为 "笑气"）被广泛应用于食品、医疗和半导体行业。
氮气应用广泛，包括作为大气气体用于半导体制造和金属热处理、
一氧化氮的化学式为 NO。在工业中，一氧化氮通常是通过氮气的高温燃烧反应产生的。
甲烷的化学式为 CH4，是一种无色、无味、高度易燃的气体。它是最简单的碳氢化合物、
氦气是惰性气体，也是所有气体中最不溶于液体的气体，因此被用作加压剂。作为
环氧乙烷是一种有毒物质，以前曾用于制造杀菌剂。环氧乙烷易燃易爆，因此
乙烯是广泛应用于化学工业的碳氢化合物。其全球产量超过任何其他有机化合物。乙烯
乙烷是一种重质饱和碳氢化合物。它的主要用途是作为石油化工原料，用于生产
二氧化碳是一种无色、无臭、无味、无毒的气体。熔点-56.6°C（0.52MPa），沸点-78.6°C（升华），密度 1.977g/L。
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