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卤化碳 32（CH2F2）：常用作制冷剂和生产含氟聚合物的前体。纯度：99.9%

三氟甲烷（CHF3）：在半导体工业中用作清洁气体和制冷剂。纯度范围通常为 99% 至 99.999%。

卤化碳 14（CF4）：在半导体工业中广泛用作等离子蚀刻气体和制冷剂。纯度：99.999%。

锗（GeH4）：用于半导体生产，尤其是锗薄膜的沉积。纯度：99.999%

二硅烷（SiH3）2：主要用于半导体工业的硅层外延生长。纯度：99.999%。

二氯硅烷（SiH2Cl2）：用于生产半导体材料，以及在化学气相沉积（CVD）过程中作为硅沉积的前驱体。纯度：2N~3N  

二硼烷是一种由硼原子和氢原子组成的化合物，分子式为 B2H6。这种物质在室温下极不稳定，有甜味。由硼原子和氢原子组成的化合物称为硼烷。二硼烷是最简单的硼氢化物之一。 ...

氯的化学式为 Cl2，是一种有毒气体。它主要用于大规模集成电路、光纤、高温超导等高科技领域。氯气广泛用于自来水消毒、纸浆和纺织品漂白、矿石提炼、有机和无机氯化物合成等。它...

三氟化硼（BF3）是一种无色、有毒、不可燃、具有腐蚀性的高压气体。 应用 在半导体工业中，三氟化硼可用于：硅离子注入中的 p 型扩散。 材料兼容性 金属：黄铜、不锈钢、碳钢、铜、蒙乃尔合金。塑料：Kel-F；PTFE、FEP 和 PFA 含氟聚合物树脂；Tefzel；聚氯乙烯；PVDF....。